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價(jià)格：電議
所在地：廣東 深圳市
型號(hào)：PL311
更新時(shí)間：2024-09-18
瀏覽次數(shù)：721
公司地址：廣東省深圳市龍華區(qū)大浪街道藍(lán)碩大廈
李紅遠(yuǎn)(先生)
光刻膠剝離液 光刻膠去膠液 抗蝕劑剝離液 光刻膠清洗劑
產(chǎn)品概述：
光刻膠剝離液（光刻膠去膠液）PL311是針對(duì)半導(dǎo)體晶圓芯片制造過程而設(shè)計(jì)，光刻膠層需要在制造過程結(jié)束時(shí)，從襯底表面去除。本品采用極性非質(zhì)子有機(jī)溶劑、還原劑、阻蝕劑等成分，科學(xué)復(fù)配而成，水溶性好，表面張力低，清洗能力強(qiáng)，可以迅速去除光刻膠殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污，不引入任何污染物，潔凈度高，對(duì)各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線無腐蝕，無毒無刺激性氣味，環(huán)保安全，對(duì)人體與環(huán)境友好。
適用范圍：
光刻膠剝離液（光刻膠去膠液）PL311用于去除正型光刻膠，以及用于負(fù)片的返工處理。適用于半導(dǎo)體晶圓表面、LCD/OLED加工的光刻膠和CMOS圖像傳感器等返修芯片的紅膠，以及電子設(shè)備、電子儀器的清洗。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1.去膠速度快，去膠能力強(qiáng)，可迅速去除晶圓表面和襯底金屬表面的光刻膠等殘留物；
2. 光刻膠剝離液（光刻膠去膠液）去除金屬離子污染物、粉塵顆粒物，無殘留；
3.材料相容性好，對(duì)襯底材料及金屬布線無腐蝕性；
4.無毒無刺激，不燃不爆，不含ODS（臭氧層破壞物質(zhì)），符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn)。
產(chǎn)品參數(shù)：
外觀（原液) ：無色透明液體
比重 ：1.06±0.01
PH值 ：10—11
氣味 ：無
使用方法：
光刻膠剝離液（光刻膠去膠液）PL311根據(jù)不同要求原液或稀釋使用，稀釋比例不超過20倍；使用前請(qǐng)咨詢我司技術(shù)人員！
溫度：50-60℃
時(shí)間：5-10分鐘
注意：清洗設(shè)備建議選擇高頻超聲波清洗，避免因頻率過高震傷產(chǎn)品。
注意事項(xiàng)：
如不慎進(jìn)入眼中應(yīng)立即用清水沖洗，人工清洗時(shí)，請(qǐng)配戴防護(hù)手套；
儲(chǔ)存于陰涼干燥處，避免陽光直射
包裝規(guī)格：
1加侖/桶
免責(zé)聲明：以上所展示的[PL311 光刻膠剝離液]信息由會(huì)員[深圳華億科技有限公司]自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)。
