2016款光譜橢偏儀

河北慧采科技有限公司

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型號(hào)：2016款

更新時(shí)間：2017-10-28

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

莆田光譜橢偏儀和橢偏儀和與維修中的應(yīng)用光譜橢偏儀

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產(chǎn)品說明

產(chǎn)品簡(jiǎn)介: EM12-PV是采用量拓科技的測(cè)量技術(shù)，針對(duì)中端精度需求的光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。 EM12-PV用于測(cè)量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測(cè)量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。 EM12-PV融合多項(xiàng)量拓科技，采用一體化樣品臺(tái)技術(shù)，兼容測(cè)量單晶和多晶太陽電池樣品。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡(jiǎn)單安全。特點(diǎn)：粗糙絨面納米薄膜的測(cè)量的光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測(cè)器件以及高信噪比的微弱信號(hào)處理方法，實(shí)現(xiàn)了對(duì)粗糙表面散射為主和低反射率為特征的絨面太陽電池表面納米鍍層的檢測(cè)。次納米量級(jí)的高靈敏度和準(zhǔn)確度的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了高準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性，測(cè)量絨面減反膜的厚度精度優(yōu)于0.2nm。 1.6秒的快速測(cè)量水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在1.6秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量，可滿足快速多點(diǎn)檢測(cè)和批量檢測(cè)需求。簡(jiǎn)單方便安全的儀器操作一鍵式操作設(shè)計(jì)，用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出，豐富的模型庫和材料庫也同時(shí)方便了用戶的操作需求。應(yīng)用： EM12-PV適合于光伏領(lǐng)域中端精度要求的工藝研發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)的質(zhì)量控制。 EM12-PV可用于測(cè)量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面上單層減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n，典型納米膜層包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等，應(yīng)用領(lǐng)域包括晶體硅太陽電池、薄膜太陽電池等。 EM12-PV也可用于測(cè)量光滑平面基底上的單層或雙層納米薄膜，包括膜層的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。也可用于測(cè)量塊狀材料（包括，液體、金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體、微電子、平板顯示等。技術(shù)指標(biāo)：項(xiàng)目技術(shù)指標(biāo) 儀器型號(hào)

莆田光譜橢偏儀,橢偏儀,與維修中的應(yīng)用多種型號(hào)圖片


型號(hào):JX200089EX3 自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀	型號(hào):JX200098EM12 精致型多入射角激光橢偏儀	型號(hào):JX200094EM12-PV 精致型多入射角激光橢偏儀（光伏專用）

莆田光譜橢偏儀,橢偏儀,與維修中的應(yīng)用

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莆田光譜橢偏儀,橢偏儀,與維修中的應(yīng)用多種型號(hào)內(nèi)容

型號(hào):JX200089EX3 自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀

EX3自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）測(cè)量原理，針對(duì)納米薄膜厚度測(cè)量領(lǐng)域推出的一款自動(dòng)測(cè)量型教學(xué)儀器。與EM22儀器相比，該儀器采用半導(dǎo)體激光器作為光源，穩(wěn)定性好，體積更小。
EX3儀器適用于納米薄膜的厚度測(cè)量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時(shí)測(cè)量。
EX3儀器還可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料（如，金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)）的折射率n和消光系數(shù)k。
特點(diǎn):
經(jīng)典消光法橢偏測(cè)量原理
儀器采用消光法橢偏測(cè)量原理，易于理解和掌握橢偏測(cè)量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的一體化結(jié)構(gòu)
集成一體化設(shè)計(jì)，簡(jiǎn)潔的儀器外形通過USB接口與計(jì)算機(jī)相連，方便儀器使用。
高穩(wěn)定性光源
采用半導(dǎo)體激光器作為探測(cè)光的光源，穩(wěn)定性高，噪聲低。
豐富實(shí)用的樣品測(cè)量功能
可測(cè)量納米薄膜的膜厚和折射率、塊狀材料的復(fù)折射率等。
便捷的自動(dòng)化操作
儀器軟件可自動(dòng)完成樣品測(cè)量，并可進(jìn)行方便的測(cè)量數(shù)據(jù)分析、儀器校準(zhǔn)等操作。
安全的用戶使用權(quán)限管理
軟件中設(shè)置了用戶使用權(quán)限（包括：管理員、等模式），便于儀器管理和使用。
可擴(kuò)展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當(dāng)擴(kuò)展，完成多項(xiàng)偏振測(cè)量實(shí)驗(yàn)，如馬呂斯定律實(shí)驗(yàn)、旋光測(cè)量實(shí)、旋光等。
應(yīng)用領(lǐng)域:
EX3適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測(cè)量，也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
EX3可測(cè)量的樣品涉及微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。
技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號(hào)	EX3
測(cè)量方式	自動(dòng)測(cè)量
樣品放置方式	水平放置
光源	半導(dǎo)體激光器，波長(zhǎng)635nm
膜厚測(cè)量重復(fù)性*	0.5nm (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚范圍	透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
折射率范圍	1.3 – 10
探測(cè)光束直徑	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角讀數(shù)范圍	0-360°
偏振器步進(jìn)角	0.014°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：16mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
允許樣品尺寸	圓形樣品直徑Φ120mm，矩形樣品可達(dá)120mm x 160mm
配套軟件	* 用戶權(quán)限設(shè)置 * 多種測(cè)量模式選擇 * 多個(gè)測(cè)量項(xiàng)目選擇 * 方便的數(shù)據(jù)分析、計(jì)算、輸入輸出
外形尺寸	（入射角度70°時(shí)）450375260mm
儀器重量（凈重）	15Kg

注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證:
ISO9001質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證
專業(yè)的儀器使用培訓(xùn)
專業(yè)的橢偏測(cè)量原理課程

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光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200089.html
EX3 自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀
型號(hào):JX200098EM12 精致型多入射角激光橢偏儀

EM12是采用量拓科技的測(cè)量技術(shù)，針對(duì)中端精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。
EM12可在單入射角度或多入射角度下對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的厚度測(cè)量。
EM12采用了量拓科技多項(xiàng)。
特點(diǎn)：
次納米量級(jí)的高靈敏度
的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量薄納米薄膜，膜厚精度可達(dá)到0.2nm。
1.6秒的快速測(cè)量
水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在1.6秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量，可對(duì)納米膜層生長(zhǎng)過程進(jìn)行測(cè)量。
簡(jiǎn)單方便的儀器操作
用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進(jìn)行測(cè)量設(shè)置。
應(yīng)用：
EM12適合于中端精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
EM12可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
EM12可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。

技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號(hào)	EM12
激光波長(zhǎng)	632.8nm (He-Ne Laser)
膜厚測(cè)量重復(fù)性（1）	0.2nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率測(cè)量重復(fù)性（1）	2x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測(cè)量時(shí)間	與測(cè)量設(shè)置相關(guān)，典型1.6s
的膜層范圍	透明薄膜可達(dá)4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有高的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑	1-2mm
入射角度	40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié)，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° 樣品對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺(tái)尺寸	平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm
外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí))
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái) 真空吸附泵
軟件	ETEM軟件： l 中英文界面可選； l 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用； l 單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合； l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。

性能保證:

穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、的采樣方法，保證了高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度
的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、的樣品方位對(duì)準(zhǔn)
穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn)，結(jié)合的采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量
分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測(cè)量
一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間
一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

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光譜橢偏儀
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EM12 精致型多入射角激光橢偏儀
型號(hào):JX200094EM12-PV 精致型多入射角激光橢偏儀（光伏專用）

EM12-PV是采用量拓科技的測(cè)量技術(shù)，針對(duì)中端精度需求的光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。
EM12-PV用于測(cè)量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測(cè)量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。
EM12-PV融合多項(xiàng)量拓科技，采用一體化樣品臺(tái)技術(shù)，兼容測(cè)量單晶和多晶太陽電池樣品。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡(jiǎn)單安全。
特點(diǎn)：
粗糙絨面納米薄膜的測(cè)量
的光能量增強(qiáng)技術(shù)、低噪聲的探測(cè)器件以及高信噪比的微弱信號(hào)處理方法，實(shí)現(xiàn)了對(duì)粗糙表面散射為主和低反射率為特征的絨面太陽電池表面納米鍍層的檢測(cè)。
次納米量級(jí)的高靈敏度和準(zhǔn)確度
的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了高準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性，測(cè)量絨面減反膜的厚度精度優(yōu)于0.2nm。
1.6秒的快速測(cè)量
水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在1.6秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量，可滿足快速多點(diǎn)檢測(cè)和批量檢測(cè)需求。
簡(jiǎn)單方便安全的儀器操作
一鍵式操作設(shè)計(jì)，用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出，豐富的模型庫和材料庫也同時(shí)方便了用戶的操作需求。
應(yīng)用：
EM12-PV適合于光伏領(lǐng)域中端精度要求的工藝研發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)的質(zhì)量控制。
EM12-PV可用于測(cè)量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面上單層減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n，典型納米膜層包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等，應(yīng)用領(lǐng)域包括晶體硅太陽電池、薄膜太陽電池等。
EM12-PV也可用于測(cè)量光滑平面基底上的單層或雙層納米薄膜，包括膜層的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。也可用于測(cè)量塊狀材料（包括，液體、金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）在632.8nm下的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體、微電子、平板顯示等。

技術(shù)指標(biāo)：

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號(hào)	EM12-PV
激光波長(zhǎng)	632.8nm (He-Ne Laser)
膜厚測(cè)量重復(fù)性（^1）	0.2nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚測(cè)量重復(fù)性（^1）	0.2nm (對(duì)于絨面Si基底上80nm的Si3N4膜層)
折射率精度（^1）	2x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率精度（^1）	2x10-3 (對(duì)于絨面Si基底上80nm的Si3N4膜層)
單次測(cè)量時(shí)間	與測(cè)量設(shè)置相關(guān)，典型1.6s
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有高的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑	1-2mm
入射角度	40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié)，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	一體化樣品臺(tái)輕松變換可測(cè)量單晶或多晶樣品
	可測(cè)量156*156mm電池樣品上每個(gè)點(diǎn)
	Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm
	二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
	樣品對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺(tái)尺寸	平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm
樣品臺(tái)尺寸	兼容125125mm和156156mm的太陽能電池樣品
的膜層厚度范圍	粗糙表面樣品：與絨面物理結(jié)構(gòu)及材料性質(zhì)相關(guān)
的膜層厚度范圍	光滑平面樣品：透明薄膜可達(dá)4um，吸收薄膜與材料性質(zhì)相關(guān)
外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí))
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái)
選配件	真空吸附泵
軟件	ETEM軟件：
	中英文界面可選太陽能電池樣品預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證：
穩(wěn)定的He-Ne激光光源、的采樣方法以及低噪聲探測(cè)技術(shù)，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度
一體化樣品臺(tái)技術(shù)，兼容單晶和多晶硅太陽電池樣品,輕松變換可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確測(cè)量
的光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)系統(tǒng)，保證了快速、的樣品方位對(duì)準(zhǔn)
樣品調(diào)節(jié)技術(shù)，有效提高樣品定位精度，并節(jié)省操作時(shí)間
光電增強(qiáng)技術(shù)和獨(dú)特的噪聲處理方法，顯著降低現(xiàn)場(chǎng)噪聲的影響
一體化集成式儀器整體設(shè)計(jì)，保證了系統(tǒng)穩(wěn)定性，并節(jié)省空間
分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測(cè)量
一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02 真空吸附泵

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光譜橢偏儀
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EM12-PV 精致型多入射角激光橢偏儀（光伏專用）
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