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價格:電議
所在地:上海
型號:PE-100
更新時間:2024-04-16
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公司地址:上海國權路525號
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孔昭蘋(先生)
上海昭沅儀器設備有限公司專業致力于銷售各種高端科研儀器,代理世界一流公司的表面測試及表面處理等產品,公司擁有一批經驗豐富的銷售人員和技術人員組成,著重為各高校,研究所等單位提供集產品、應用和服務于一體的整體解決方案!
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PE-100實驗室等離子表面處理機
等離子表面處理機是一種非破壞性的表面處理設備,它是利用能量轉換技術,在一定真空負壓的狀態下,以電能將氣體轉化為活性高的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結構的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗,在短時間內有機污染物就被外接真空泵徹底抽走,其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質,所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗器既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對樣品進行消毒和殺菌。等離子清洗器現已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微觀流體學等領域。小型等離子清洗機以體積小、成本低、操作簡便等特點廣泛應用于科研及小批量生產場合。
![]() PE-100參數: 標準系統特點
電: 229mm*330mm,均可配三層電,間距76mm
等離子發生器功率:300W,100 KHz (連續可調)
質量流量控制器: O-50cc (連續可調)
Pirini真空計:0-1Torr
控制器:基于WINDOWS操作系統的控制系統
真空泵:8CFM氧氣
耐用鋁合金真空腔體
可選配置 等離子發生器功率和頻率:300W ,13.56 MHz
過程溫度控制
自定義電配置
RIE(反應離子電)配置
靜電屏蔽
系統規格 等離子控制臺:432mm* 711mm*762mm 重量:73Kg
真空泵:152mm*457mm*229mm 重量:31Kg
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Plasma Etch, Inc 公司介紹
Plasma Etch公司成立于1980年,致力于提供電子行業用的等離子設備及相關服務。通過幾十年的發展,公司發展成為提供等離子設備方面的,可為客戶提供專業的產品和解決方案,先后為眾多知名企業提供等離子處理設備,如美國宇航局NASA, 美國波音Boeing,的電子保安系統產品制造商美國霍尼韋爾Honeywell,美國摩托羅拉Moto, 德國拜耳Bayer,軍用飛機的領軍企業美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。
Plasma Etch擁有多項發明,在開發和制造等離子設備方面有許多突破性創新,公司擁有等離子體技術和制造技術領域里的技術。這些的產品線是公司獨有的,生產的等離子設備是業界公認的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設備。專業溫控技術
在等離子體處理過程中,溫度是確保均勻性、有效性的一個重要參數。Plasma Etch生產的等離子設備具有可直接調節電溫度的。通過電腦程序的自動控制可保證整個等離子處理過程中溫度的穩定性。這種技術是成熟且高度可靠的,并可由操作者操作控制。
操作者可在系統控制范圍內設置任何溫度并自動保持該溫度,可在溫度范圍內設置成zui高溫度來處理任何材料和基底,從而可以以快的速度處理樣品。無需預熱或者預啟動等離子設備就可以間歇的處理樣品或者不斷的重復處理過程。
靜電屏蔽技術
我們與許多行業進行合作并進行大量的研究,許多公司采用我們具有和特點的真空腔,真空腔采用航空級鋁合金材料,具有非常好的耐用性。研究表明,采用鋁合金作為腔體可以微調每個等離子處理過程直到的均勻性。等離子處理過程控制不恰當的話會導致對樣品的損壞,均勻性欠佳導致某些地方燒焦、彎曲或者損壞樣品,對此我們改進了設計。采用我們的靜電屏蔽技術就可以使得等離子體且均勻在電表面穿流而過,這一技術大大降低了等離子處理過程中對樣品的損傷。該電磁屏蔽技術是Plasma Etch獨有的。
系統控制軟件
Plasma Etch生產的等離子設備和控制軟件的接口都是獨特的,軟件可以監控和自動控制處理進程,如下:
1.創建等離子處理工藝流程
2.監控和記錄處理數據
3.設置數據警報點
4.存儲過程數據
5.實時自動監測處理工藝
6.創建特定樣品的處理工藝流程
7.制定連續的處理任務
通過使用該控制軟件,可以的控制等離子處理過程的每一個環節,并能夠從程序中刪除失誤操作。
更快地刻蝕速度
Plasma Etch的等離子設備刻蝕速度是其他等離子設備的3倍以上。獨特的設計和,如溫控技術和靜電屏蔽的結合使我們能夠在等離子體處理上提供的質量與速度。
應用領域
目前設備廣泛應用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理,在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等領域有廣泛應用。
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