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雙波長紫外臭氧清洗機（185nm和254nm)
發布時間：2024-04-25瀏覽次數：992返回列表
紫外臭氧清洗機 型號：DP-UV2
概述
紫外臭氧清洗機是一種干法清洗設備，可用于清洗多種單晶基片，以成好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。
紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氧，254nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）；所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機化合物。
參數 指標
材質 內部采用不銹鋼材料
結構 抽屜式樣品臺，取、放基板簡單、方便
氣路 預留進氣接口，豐富設備的清洗種類
保護 抽屜開合與UV燈工作互鎖，避免紫外線傷害
計時 按鍵定時器，數顯倒計時，放便直觀
操作 清洗工作進程可以任意時間手動終止
可選配件 可選臭氧中和器，避免臭氧傷害
電氣 指標
清洗波段 185nm和254nm
距離UV燈3-5mm平均光強 28~32mW/cm2
燈管 雙波低壓汞燈X2
燈管功率 300W
燈管尺寸 300mm×300mm
照射區域 300mm×300mm（基臺尺寸305×340mm）
可調照射距離 5~60mm
定時器工作范圍 0~99min99s 具有自動倒計時功能
機械 指標
進、出氣口 進氣口：φ8mm，出氣口：φ50mm
設備外型尺寸
長（ 430mm）×寬（ 380mm）×高（ 320mm）
（含臭氧中和器的尺寸為）長580mm×寬380mm×高420mm
重量 26KG
