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價(jià)格:電議
所在地:河南 鄭州市
型號(hào):KT-Z1650PVD
更新時(shí)間:2023-08-17
瀏覽次數(shù):797
公司地址:鄭州高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號(hào)6幢11單元3層73號(hào)
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孟工(先生)
金靶材鍍膜磁控濺射,7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。金靶材鍍膜磁控濺射
所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來(lái)實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測(cè)技術(shù)參數(shù);
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控制方式 |
7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
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濺射電源 |
直流濺射電源 |
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鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
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功率 |
≤1000W |
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輸出電壓電流 |
電壓≤1000V 電流≤1A |
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真空 |
機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
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濺射真空 |
≤30Pa |
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擋板類(lèi)型 |
電控 |
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真空腔室 |
不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
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樣品臺(tái) |
可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
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樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 |
8轉(zhuǎn)/分鐘 |
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樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 |
40-105mm |
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真空測(cè)量 |
皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
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預(yù)留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
免責(zé)聲明:以上所展示的[KT-Z1650PVD 金靶材鍍膜磁控濺射]信息由會(huì)員[鄭州科晶儀器設(shè)備有限公司]自行提供,內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)。