分子層沉積系統(tǒng)MLD (Molecular Layer Deposition)是一種高級的有機(jī)聚合物薄膜與有機(jī)無機(jī)雜化膜制備技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)每個(gè)循環(huán)沉積一個(gè)分子層，精確控制厚度，在科研和工業(yè)界有非常好的發(fā)展前景。

北京伯英科技有限公司致力于引進(jìn)世界的技術(shù)與儀器設(shè)備，為中國用戶的科研服務(wù)。 世有伯樂，而后有千里馬。公司致力于成為我們的用戶所需要的千里馬，為用戶提供世界的科研儀器設(shè)備與技術(shù)服務(wù)；公司致力于成為伯樂，致力于挖掘世界的技術(shù)與科研儀器設(shè)備，為用戶的科研服務(wù)；公司致力于成為伯樂，致力于給我們的員工提供卓越的發(fā)展平臺，共同發(fā)展進(jìn)步。 我們的產(chǎn)品可用于生命科學(xué)（分子相互作用），納米力學(xué)測量（多功能掃描探針顯微鏡）膠體與化學(xué)表界面，薄膜沉積與表征，微電子與半導(dǎo)體行業(yè)，航空航天器件可靠性檢測，以及其他集成電路與器件可靠性檢測與失效分析，混凝土行業(yè)，無損超聲探傷檢測，超聲醫(yī)學(xué)成像等方面。 伯英科技，志行千里！ 主要儀器有： 1.耗散型石英晶體微天平分析儀-開放式OPEN-QCM 2. 橢偏實(shí)時(shí)成像分子相互作用儀 3. 卷對卷式LB膜分析儀，Dipcoater浸漬鍍膜機(jī),微量注射泵 4. 多功能掃描探針顯微鏡（包含納米壓痕劃痕磨損）等。其中耗散型石英晶體微天平分析儀-開放式是世界上zui小、輕、靈活，性價(jià)比非常好的石英晶體微天平分析儀。

分子層沉積系統(tǒng)MLD (Molecular Layer Deposition)是一種高級的有機(jī)聚合物薄膜與有機(jī)無機(jī)雜化膜制備技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)每個(gè)循環(huán)沉積一個(gè)分子層，精確控制厚度，在科研和工業(yè)界有非常好的發(fā)展前景。

分子層沉積系統(tǒng)MLD相對于傳統(tǒng)的有機(jī)聚合物薄膜沉積工藝（旋涂，熱蒸發(fā)）而言，薄膜厚度精確可控（控制循環(huán)數(shù)），厚度更均勻、階梯覆蓋率和保型性更好、重復(fù)性更可靠。

分子層沉積系統(tǒng)MLD：

通過將兩種反應(yīng)氣體（或者蒸汽）以氣體脈沖形式交替地引入反應(yīng)器，依靠留在基底表面的吸附分子（如羥基或氨基）進(jìn)行反應(yīng)而生成薄膜。由于每次參與反應(yīng)的反應(yīng)物局限于化學(xué)吸附于基底表面的分子，這使得 MLD 具有自限制生長特征。

分子層沉積系統(tǒng)MLD目前可沉積的薄膜有：

 

有機(jī)聚合物物薄膜：

Polyimide聚酰亞胺（熱解可得到碳膜），Polyurea聚脲，Polyamide（聚酰胺（尼龍66），Polyimide–amide聚酰亞胺-酰胺，Polyurethane聚氨酯，Polythiurea聚硫脲，Polyester聚酯，聚乙二醇（PEG）等。

 

有機(jī)無機(jī)雜化薄膜：

Al、Ti、Zn、Fe 的有機(jī)-無機(jī)雜化膜…

設(shè)備沉積部分薄膜均勻性數(shù)據(jù)：

材料	基片大小	均勻性
Al-EG(HQ, alucone)	6”	﹤1%
Ti-EG(HQ, Tincone)	6”	﹤1%
Zn-EG(HQ, zincone)	6”	﹤1%
聚酰胺(polyamide)	6”	﹤3%
聚酰亞胺(Polyimide)	6”	﹤3%
聚脲(polyurea)	6”	﹤3%

分子層沉積系統(tǒng)MLD應(yīng)用領(lǐng)域：

MLD沉積的有機(jī)聚合物薄膜、有機(jī)無機(jī)雜化薄膜、有機(jī)無機(jī)納米疊層薄膜，可以用于微電子，MEMS， 薄膜封裝、生物芯片，潤滑，耐磨，耐腐蝕，防靜電，阻燃，耐高溫 防潮，防水保護(hù)層，藥片薄膜衣等領(lǐng)域。

MLD可實(shí)現(xiàn)單層、亞單層、埃級別的精準(zhǔn)厚度控制，在分子水平上控制薄膜的形成和生長，并對形貌無特殊要求，能夠在平面、粒子、纖維、多孔以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)上沉積薄膜。

Polyimide聚亞酰胺與Ta2O5納米疊層的介電常數(shù)與納米力學(xué)性能：

介電常數(shù)隨Ta2O5含量增加而增加。

薄膜的柔軟度、彈性、塑性隨Polyimide聚酰亞胺的增加而增加

分子層沉積系統(tǒng)MLD沉積聚酰亞胺，熱解成炭膜

Al2O3/TMA+EG納米疊層防水層：

作為氣體阻擋層，比單純的氧化鋁薄膜要好，WVTR值可達(dá)0.021 g/(m2·day)，而氧化鋁本身值為0.037 g/(m2·day)，測試條件：85 °C，相對濕度85%。

PEG薄膜作為防污薄膜-用于生物芯片

MLD沉積PEG薄膜，可以提供厚度精確可控，高質(zhì)量，防污的薄膜，使生物芯片具有高的選擇性、穩(wěn)定、可產(chǎn)業(yè)化。

技術(shù)參數(shù)：

反應(yīng)器尺寸：4-8 英寸

反應(yīng)器溫度：室溫~400 oC

前驅(qū)體源：4-6 路液/固源，2-3 路氣源

 

MLD可與氣相色譜、固定床/高壓反應(yīng)釜聯(lián)用

MLD 可與紅外光譜儀聯(lián)用

以上類型 MLD，均可配備實(shí)驗(yàn)全程控制與監(jiān)測系統(tǒng)、尾氣處理等

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