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價格：電議
所在地：北京
型號：200目
更新時間：2020-08-28
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公司地址：北京市海淀區清河永泰創新園
高峻峰(女士) 經理
北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關村科技園區的國家高新技術企業，由業內龍頭企業為發起人，整合了國內科研院校的優勢資源，吸收國內外先進科學的管理經驗而成立。人才儲備豐富，資金力量雄厚，通過ISO9001:2008質量體系及ISO14001:2004環境管理體系認證，具有自主進出口權。
北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應用技術研究開發方面，有著得天獨厚的優勢。以堅強的技術為基礎，我公司開發了多個系列的新材料，這些產品牌號約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫藥、新能源等行業獲得廣泛應用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產線，生產設備先進，工藝完善。
目前，我們的客戶遍及美國．德國．日本．韓國．臺灣．香港等十幾個國家和地區，包括國內外科研軍工，上市公司等知名企事業在內的六百余家單位。
北京中金研新材料科技有限公司下設鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業的領頭羊。
磁控濺射靶材
（可為電子與半導體，平面顯示行業，建筑與汽車玻璃行業，薄膜太陽能電池行業，磁存儲行業，工具行業，裝飾行業提供高品質靶材）
高純單質金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶，鉻靶，銅靶，鎳靶，硅靶，鍺靶，鈮靶材，鈦鈀，銦靶，銀靶，錫靶，石墨靶，鉭靶，鉬靶，金靶，鉿靶，錳靶，鋯靶，鎂靶，鋅靶，鉛靶，銥靶，釔靶，鈰靶，鑭靶，鐿靶，釓靶，鉑靶等高純單質金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶，AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶，氧化釔靶，氧化鐵靶材，,氧化鎳靶，氧化鉻靶，氧化鋅靶，硫化鋅靶，硫化鎘靶材，硫化鉬靶，二氧化硅靶，一氧化硅靶，二氧化鋯靶，五氧化二鈮靶，二氧化鈦靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，氟化鎂靶，硒化鋅靶，氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶材，鈮酸鋰靶，鈦酸鐠靶材，鈦酸鋇靶，鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注：CNM生產的陶瓷靶材采用世界最先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶，鎳鉻合金靶，鈦鋁合金靶，硅鋁合金靶，銅銦合金靶，銅鎵合金靶，銅銦鎵合金靶，銅銦鎵硒靶，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶，鎢鈦靶，，鐵鈷靶，白銅靶等高純合金濺射靶材。
備注：CNM生產的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
真空鍍膜材料
（鍍制：復合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質膜，光學膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）
高品質真空鍍膜材料（4N-5N）：
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,
一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3
等高純氧化物鍍膜材料。
2.氟化物：氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，
氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。
3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，
鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。
4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，
高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，
金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，
銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。
備注：CNM生產的真空鍍膜材料均通過SGS認證，純度高，濺點少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強，抗腐蝕性強，顏色均勻 等優點。
高純材料
（產品廣泛應用于半導體和電子行業的基礎材料，光學，航天，原子能工業，電子，光電子，太陽能電池，裝飾，合金添加劑等各類科學研究和工業生產領域）
1.高純金屬(純度：3N-8N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：
高純鋁,高純銅，高純鉻，高純鈷，高純金，高純銀，高純鉑，高純鉿，高純鎢，高純鉬，
高純硅，高純鍺，高純錳，高純鎂，高純鈮，高純錫，高純鋅，高純釩，高純鐵，高純鈦
，高純鋯，高純碲，高純鎳，高純鉭，高純鎵，高純銦，高純鈀，高純錸，高純鑭,高純鐠,
高純鈰，高純釓,高純銥，高純銠，高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩，高純銪，高純鈥，
高純鋱等高純金屬材料。
2.高純氧化物(純度：3N-6N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：
一氧化硅，SiO,二氧化硅，SiO2，二氧化鉿，HfO2,二氧化鋯，ZrO2,一氧化鈦,TiO，二氧化鈦，
TiO2,三氧化二鈦，Ti2O3,五氧化三鈦，Ti3O5，五氧化二鉭，Ta2O5，五氧化二鈮，Nb2O5，
三氧化二鋁，Al2O3,三氧化二鈧，Sc2O3，三氧化二銦，In2O3,二氧化鈰，CeO2，氧化鎂，MgO,
三氧化鎢，WO3，氧化銅,CuO,氧化鐵,Fe2O3,氧化釤，Sm2O3，氧化釹，Nd2O3，氧化鑭，La2O3，
氧化釔，Y2O3，氧化鐿，Yb2O3，氧化釓，Gd2O3,氧化镥，Lu2O3,氧化鋱，Tb2O3，氧化鈥，Ho2O3，
氧化銪，Eu2O3，氧化銩，Tm2O3,氧化鉺，Er2O3，氧化鉍，Bi2O3，氧化鐠，Pr6O11，氧化銻，Sb2O3，氧化釩，V2O5，氧化鎳，NiO,氧化鋅，ZnO,氧化鉻，Cr2O3，氧化鍶，SrO等高純氧化物
3.高純氟化物(純度：3N-6N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：
氟化鏑DyF3，氟化釹NdF3，氟化鉀KF，氟化鍶SrF2，氟化鈉NaF，氟化鋇BaF2，氟化鉛PbF2，氟化鋁AlF3，氟化鈰CeF4，氟化鎂MgF2，氟化釤SmF3，氟化釹F3Nd，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化軋，氟化镥LuF3，氟化鋱TbF3，氟化銩TmF3，氟化鉺，氟化鐠等高純氟化物
4.其他化合物（(純度：3N-6N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：
碳化鋯，ZrC,碳化鉿，HfC,碳化硅，SiC,碳化硼，B4C碳化鎢WC，碳化鈦,TiC,等碳化物。
硫化銅，CuS,硫化鎘，GdS,硫化鋅，ZnS,硫化鉬，MoS,硫化錫SnS,等硫化物.氮化鈦，TiN,氮化鋁，AlN,氮化硅，Si3N4，氮化硼BC,等氮化物.二硼化鋯，ZrB2二硼化鈦，TiB2，二硼化鉿，HfB2，氯氧化鋯，氯氧化鉿，四氯化鋯，四氯化鉿，硫酸氧鈦，鈦酸鋇，鈦酸鍶，鈦酸鑭，鈦酸鐠，二硅化鉬，硒化鋅，AZO，IGZO，ITO等化合物.
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