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價格：電議
所在地：江蘇 蘇州市
型號：Microchem SU-8 2000/3000系列
更新時間：2020-02-19
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公司地址：蘇州市工業園區方洲路128號
張女士(女士) 客服主管
蘇州汶顥微流控技術股份有限公司是一家留學人員回國創業的高新科技企業，集研發、生產、銷售為一體，技術力量雄厚，生產設備先進，檢測手段齊全，產品質量過硬。公司建立了完備的微流控芯片研發與生產中心，配置了三條微流控芯片生產 線，包括數控CNC微加工儀器，軟刻蝕有機芯片加工系統，光刻-掩模無機芯片加工系統，可以加工生產所有材質的芯片，如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。產品涵蓋集成式通用醫療診斷芯片、集成式通用環境保護分析監測芯片、集成式通用食品安全分析檢測芯片和基于微流控芯片的新能源體系四大系列數十個品種，以及各類科研類芯片，并在生物芯片和化學芯片領域一直保持技術和研發的領先地位，申請國家專利89項，其中授權20余項，已經獲批注冊商標2件，軟件著作權7件，江蘇省高新技術產品3項，建立企業標準5項。
蘇州汶顥微流控技術股份有限公司提供的產品和服務按市場可分為科研類芯片、儀器標配芯片、應用類芯片及系統和芯片實驗室解決方案。科研類芯片服務于基于微流控芯片的科研工作者，提供包括聚二甲基硅氧烷（PDMS）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、玻璃及硅基等各種不同材質的微流控芯片的設計與制備，用戶只需配置必要的輔助設備即可使用；儀器標配芯片是針對國內市場上微流控芯片儀器開發的標準芯片，為微流控芯片儀器的核心組件，屬耗材類產品，如毛細管電泳芯片；應用類芯片及系統是利用微流控芯片的技術優勢開發的分析檢測裝置，應用于環保、食品安全、藥物篩選等領域；芯片實驗室解決方案為客戶提供完整的一對一的微流控芯片科研或應用的解決方案，分為產品和科技咨詢兩個方面：產品包括微流控芯片加工、檢測儀器設備配置及微流控芯片配件配置；科技咨詢為客戶提供組建芯片實驗室的整體方案、解決微流控芯片應用中的技術難題、微流控芯片項目研發服務等。
按照現代公司制度規范運作企業是公司創辦伊始就秉承的基本理念，目前，公司的團隊結構、人事制度、財務制度、知識產權制度等都已經逐步形成和完善。公司的口號：高品質、高信譽、高效率。公司的宗旨：以發明創新為龍頭，以科技成果轉化為手段，以微流控芯片領域為主戰場，走科研成果商品化，商品產業化，產業規模化和國際化的道路，以自主創新的核心技術為基礎的競爭戰略為企業長期發展戰略，整合產業鏈的各項優勢資源，打造以自主創新為企業特色的產業價值鏈，塑造民族品牌，迎接國際化的挑戰。
產品簡介：
的化學增幅型負像SU-8光刻膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結構。SU-8光刻膠在近紫外光(365nm-400nm)范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩定性。SU-8在受到紫外輻射后發生交聯，是一種化學擴大負性膠，可以形成臺階等結構復雜的圖形；且SU-8光刻膠不導電，在電鍍時可以直接作為緣體使用。由于具有較多優點，SU-8光刻膠正被逐漸應用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用SU-8光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。
光刻前清洗工藝：
為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要對基材進行清洗。常用的清洗方法是利用濃硫酸及雙氧水的混合溶液浸泡，隨后用去離子水清洗并用氮氣吹干。除此之外還可以利用反應離子刻蝕或等離子表面清洗儀清洗。
光刻工藝：
將SU-8光刻膠組分旋涂在基材上，旋涂厚度幾至幾百微米。涂覆晶片經過前烘并冷卻至室溫。在烘干過程中，優先選擇加熱均勻且溫度控制的加熱板；不能使用鼓風干燥箱，防止因為光刻膠表面優先固化從而阻止內層光刻膠溶劑的揮發。冷卻后，將負光掩模與涂覆晶片接觸并在汞燈的紫外輻射劑量10-250mJ/㎝2條件下進行曝光。曝光結束后，選擇合適的烘烤溫度及時間。將晶片在顯影液中浸漬顯影，隨后用氮氣吹干。
以及可以配合SU-8膠使用的SU-8顯影液、去膠液。
免責聲明：以上所展示的[Microchem SU-8 2000/3000系列 光刻膠]信息由會員[蘇州汶顥微流控技術股份有限公司]自行提供，內容的真實性、準確性和合法性由發布會員負責。
