RISUN TEM氮化硅窗口

上海昭沅儀器設備有限公司

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價格：電議

所在地：上海

型號：RISUN

更新時間：2020-03-23

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公司地址：上海國權路525號

18964529930 孔昭蘋(先生)

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產品簡介

1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同一區域的交叉配對表征。2、大窗口尺寸，適合TEM大角度轉動觀察。3、無碳、無雜質的清潔TEM觀測平臺。4、背景氮化硅無定形、無特征。

上海昭沅儀器設備有限公司專業致力于銷售各種高端科研儀器，代理世界一流公司的表面測試及表面處理等產品，公司擁有一批經驗豐富的銷售人員和技術人員組成，著重為各高校，研究所等單位提供集產品、應用和服務于一體的整體解決方案！

公司重點致力于大專院校、科研院所實驗和企業生產所需的各種表面處理設備、表面形貌測試儀器及相關電鏡耗材的銷售和技術推廣。

公司擁有完善的銷售網絡和雄厚的技術力量，始終致力于提供安全、穩定、高性能的實驗儀器設備及專業產品，為您提供快速、滿意的安裝和售后服務。

展開

TEM用氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗口特點

• 低應力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有zui大的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應用

• 氮化硅支撐膜：低應力的LPCVD非化學計量比氮化硅薄膜，良好的平整度、緣性和疏水性

• 良好的化學穩定性：圖像分辨率和機械強度達到理想的平衡；

• 均勻性：減少了不同區域的不均勻性；

• TEM斷面成像應用的特殊窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度zui大可達75°

• 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

• 可應用于多種顯微技術：良好的機械穩定性使得同一種薄膜可應用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。

• 薄膜和基底耐酸，不會被溶解：可以在酸性條件或常規條件下研究、制備樣本

• 可應用于高溫試驗環境： >1000° C

• 可提供更對的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無碳環境中的TEM成像和分析

• 容易清洗：機械穩定性和化學穩定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無有機物殘留，改善成像質量；

• 良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無背景結構適合于SEM成像

• 超凈加工，防止支撐膜上殘留微粒：100級的超凈間內包裝

• 框架厚度：200 and 50µm ：200µm是標準的TEM支撐架；50µm是特殊的TEM支撐架

• 標準框架直徑為3mm

• 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

氮化硅薄膜窗口規格

單窗口系列

多窗口系列

窗口類型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	50nm	2x1陣列，1001500µm	Φ3mm	200µm
兩窗口	15nm /50nm /200nm	2x1陣列，1001500µm	Φ3mm	200µm
兩窗口	50nm	2x1陣列，1001500µm	Φ3mm	50µm
兩窗口	10nm /20nm	3x3陣列，8個窗口100100µm， 1個窗口100350µm	Φ3mm	100µm
	10nm	3x3陣列，8個窗口250250µm， 1個窗口250500µm	Φ3mm	100µm
	20nm	3x3陣列，8個窗口100100µm， 1個窗口100350µm	Φ3mm	200µm
	50nm	3x3陣列，8個窗口100100µm， 1個窗口100350µm	Φ3mm	100µm
九窗口	15nm /50nm /200nm	3x3陣列，窗口100100µm，	Φ3mm	200µm
九窗口	50nm	3x3陣列，窗口100100µm，	Φ3mm	50µm
九窗口	8nm	單窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25個網格，氮化硅支撐膜200nm；網格上的氮化硅薄膜8nm；網格大小：75µm ，網格間距：25µm；	Φ3mm	200µm