Research桌面真空鍍膜

成都漢普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于電真空、核級(jí)裝備、人工晶體材料及薄膜制備設(shè)備的技術(shù)提升，在服務(wù)領(lǐng)域深耕細(xì)作，具有較深的技術(shù)沉積。
公司成立以來(lái)，秉承“超越極限，邁向卓越”的核心價(jià)值觀，在自己所擅長(zhǎng)領(lǐng)域?yàn)榭蛻籼峁﹥?yōu)良的產(chǎn)品和技術(shù)解決方案，公司注重產(chǎn)品和運(yùn)營(yíng)模式創(chuàng)新，我們堅(jiān)信：唯有創(chuàng)新方能給用戶增值，公司已與多家科研院所、高等院校及企事業(yè)單位進(jìn)行橫向合作，形成了科研級(jí)、工業(yè)級(jí)、軍品級(jí)產(chǎn)品體系，已為客戶設(shè)計(jì)制造了多套專用設(shè)備和儀器，獲得了用戶廣泛贊譽(yù)。

1. 主體：全封閉框架結(jié)構(gòu)，真空室為前開(kāi)門(mén)方式，機(jī)柜和主機(jī)為一體式機(jī)構(gòu)。采用優(yōu)質(zhì)0Cr18Ni9不銹鋼材料（SUS304），箱體尺寸為不小于φ350x400mm。設(shè)置DN100觀察窗口，位于真空腔體門(mén)正前方，骨架默認(rèn)白色（或鋁合金本色），門(mén)板為白色，四只腳輪，可固定，可移動(dòng)。室體、真空機(jī)組、磁控靶等有斷水報(bào)警鎖定安全裝置，能夠防止停水后出現(xiàn)安全隱患。

2. 真空系統(tǒng)：

2.1極限真空度：≤6.63×10－4Pa（空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮?dú)猓?

2.2真空配置：高速直聯(lián)旋片泵一臺(tái)，抽速大于6L/S，超高分子泵一臺(tái)，抽速600L/s。

2.3真空測(cè)量：兩路電阻規(guī)，一路電離規(guī)；對(duì)真空室和真空管道分別精確監(jiān)控，帶數(shù)據(jù)通訊。

3. 工件架系統(tǒng)：?jiǎn)喂の?英寸工件盤(pán)，工件盤(pán)可加熱至500攝氏度，工件架真空室底部安裝，便于更換基片，轉(zhuǎn)速3～30rpm。

4. 照明裝置：照明裝置1套。

5. 磁控濺射系統(tǒng)：配置2-3個(gè)Φ50mm磁控靶，安裝于真空室頂部，向下濺射成膜。

6.充氣系統(tǒng)：二路分別配置質(zhì)量流量控制器，分別為0-100SCCM 1只，0-200SCCM1只，準(zhǔn)確度±1% F.S，線性±0.5 % F.S，重復(fù)精度±0.2% F.S。

7.循環(huán)冷卻水路：配置冷水機(jī)組與空壓機(jī)。

8.電氣控制系統(tǒng)：采用功能化模塊設(shè)計(jì)方式，匹配西門(mén)子控制單元和MCGS人機(jī)界面，實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)的自動(dòng)控制，基本工作單元的控制，安全報(bào)警及故障信息顯示，并通過(guò)文字方式提示，軟件的功能和模塊可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行單列或合并，但不得減少功能。

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