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多靶磁控濺射鍍膜機 型號:YQDH-500JJC 貨號:ZH5498 產品簡介 ...
產品詳細介紹
| 多靶磁控濺射鍍膜機 型號:YQDH-500JJC |
貨號:ZH5498 |
| 產品簡介 該鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米和微米的單層及多層工能膜-硬質膜,光學膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導體膜,介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。 該鍍膜機為前開門式設計,功能強,鍍膜穩定,重復性好,操作簡便。真空室材料均采用優良材SUS304不繡鋼材料制造,規范,,了材料的成膜純度。 采用分子泵+直聯機械泵機組,具有抽速快,無油,操作方便快捷,易于維護的特點。 1 鍍膜方式:可實現多靶共濺模式 2 磁控靶:圓柱/平面靶; 3 進氣系統:三路流量計; 4 鍍膜室體積:500×500×600mm3 5 限真空度:6.7×10-5Pa; 恢復真空度:從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞ 6 真空抽氣系統:機械泵與分子泵組成; 7 真空測量系統:數顯復合真空計; 8 工作電源:真流電源500W;射頻電源500W﹝13.56MHz﹞;加熱控溫電源; 9 工作烘烤溫度:室溫~800℃可控可調﹝PID控溫﹞; 10 選配件:石英晶振測厚儀,冷卻水機組等; 11 供電電源:三相AC380V,50Hz www.centrwin.com www.ghitest.com |
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