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高頻光電導壽命測試儀原理
發布時間：2022-08-22瀏覽次數：1038返回列表
τ:1～6000μs ρ＞0.1Ω·cm太陽能，硅片壽命 配已知壽命樣片、配數字示波器
為解決太陽能單晶、多晶少子壽命測量，特按照國標GB/T1553及SEMI MF-1535用高頻光電導法研制出了數字式少子壽命測試儀。
該設備是按照，標準GB/T1553“硅單晶少數載流子壽命測定的高頻光電導衰減法”設計制造。高頻光電導衰減法在我國半導體集成電路、晶體管、整流器件、核探測器行業已運用了三十多年，積累豐富的使用經驗，經過數次，十多個單位巡回測試的考驗，證明是一種成熟，的測試方法，適合于硅塊、硅棒研磨面的少子體壽命測量；也可對硅片進行測量，給出相對壽命值。方法本身對樣品表面的要求為研磨面，制樣簡便。
產品特點：
1.可測量太陽能，多晶硅塊、單晶硅棒少數載流子體壽命。表面%拋光，直接對切割面或研磨面進行測量。同時可測量多晶硅檢驗棒及集成電路、整流器、晶體管，硅單晶的少子壽命。
2.可測量太陽能，單晶及多晶硅片少數載流子的相對壽命，表面%拋光、鈍化。
3.配備，軟件的數字示波器，液晶屏上直接顯示少子壽命值，同時顯示動態光電導衰退波形，并可聯用打印機及計算機。
4.配置兩種波長的紅外光源：
a.紅外光源，光穿透硅晶體深度較深≥500μm，有利于準確測量晶體少數載流子體壽命。
b.短波長紅外脈沖激光器，光穿透硅晶體深度較淺≈30μm，但光強較強，有利于測量低阻太陽能，硅晶體。
5.測量范圍寬廣測試儀可直接測量：
a.研磨或切割面：電阻率≥0.3Ω?㎝的單晶硅棒、定向結晶多晶硅塊少子體壽命，切割片的少子相對壽命。
b.拋光面：電阻率在0.3～0.01Ω?㎝范圍內的硅單晶、鍺單晶拋光片。
壽命可測范圍：0.25μS—10ms
